Mehrkomponentige Schichtsysteme (Mekos)

Die Eigenschaften dünner Schichten sind über den Einfluss ihrer Unterlagenoberfläche manipulierbar. Besonders vielfältig ist das Spektrum der Möglichkeiten bei mehrkomponentigen Schichtsystemen, die aus verschiedenen chemischen Elementen bestehen. Die Arbeit konzentriert sich auf Siliziumkarbid-Polytypen und Silizidschichten, die wichtige technische Anwendungen versprechen. Als gemeinsame Aufgabe soll der Zusammenhang zwischen Grenzflächeneigenschaften und Wachstumsmechanismen aufgeklärt werden, um schließlich ideal angepasste Schichtsysteme zur Herstellung u. a. von Halbleiterbauelementen der Zukunft für hohe Frequenzen und hohe Temperaturen bereitstellen zu können. Der besondere Ansatz liegt in der Herstellung mehrkomponentiger Schichten mit gewünschten makroskopischen Eigenschaften aufgrund des gewachsenen Verständnisses der mikroskopischen Wechselwirkungen. Dieses Ziel soll durch breite, fakultätsübergreifende Zusammenarbeit erreicht werden.